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產(chǎn)品名稱：
氮化物研磨分散機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)： GMD2000更新時(shí)間： 2025-04-03描述：氮化物研磨分散機(jī)，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。
產(chǎn)品介紹
氮化物研磨分散機(jī),氮化物分散機(jī),氮化物高速分散機(jī),氮化物納米分散機(jī),氮化物超細(xì)分散機(jī)
氮化物，氮化物是一類氮的化合物，其中氮顯-3價(jià)。包括金屬氮化物、非金屬氮化物和氨(NH3,氮負(fù)三價(jià))，習(xí)慣上將氨作為一種特殊物質(zhì)，不列入氮化物中。金屬氮化物的熱穩(wěn)定性高，可用作高溫絕緣材料。非金屬氮化物的熱穩(wěn)定性也比較高，各具特殊性質(zhì)。六方氮化硼是優(yōu)良潤(rùn)滑劑；而立方氮化硼硬度大，可用來制車刀、鉆頭等。
氮化物的應(yīng)用和氧化物的應(yīng)用都需要將粉體物料均勻的分散到液體介質(zhì)當(dāng)中，需要進(jìn)行研磨分散細(xì)化，SGN分散設(shè)備采用特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，將研磨機(jī)和分散機(jī)合二為一，物料可以實(shí)現(xiàn)一步到位的研磨分散處理，氮化物漿料分散采用SGN研磨分散設(shè)備可以獲得均勻的漿料體系，并且物料粒徑一般可細(xì)化至DN90≤1μm。
SGN研磨式分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題！
GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn)：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
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信息來源：www.sgnprocess。。ｃｎ
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